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DIFFUSION Folha de dados, PDF

Palavra-chave pesquisada : 'DIFFUSION' - Total: 418 (1/21) Pages
Fabricante ElectrônicoNome de PeçasFolha de dadosDescrição Electrónicos
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KODENSHI_AUK CORP.
SO3517 Datasheet pdf image
259Kb/3P
Orange colored diffusion lens
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Nihon Inter Electronics...
FSU08C60 Datasheet pdf image
221Kb/5P
Diffusion type silicon diode
KSF30A20E Datasheet pdf image
44Kb/4P
DIFFUSION-TYPE SILICON DIODE
TCU10A30 Datasheet pdf image
101Kb/4P
Diffusion type Silicon diode
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KODENSHI_AUK CORP.
SYB5670 Datasheet pdf image
301Kb/3P
Milky Diffusion lens type
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Panasonic Semiconductor
2SD2215 Datasheet pdf image
49Kb/2P
Silicon NPN triple diffusion planar type(Silicon NPN triple diffusion planar type)
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Nihon Inter Electronics...
20KDA20 Datasheet pdf image
87Kb/5P
Diffusion-type Sillicon Rectifier Diode
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KODENSHI_AUK CORP.
SA5711 Datasheet pdf image
273Kb/3P
Red colored diffusion lens type
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Panasonic Semiconductor
2SC3869 Datasheet pdf image
51Kb/3P
Silicon NPN triple diffusion type
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Hi-Sincerity Mocroelect...
HBF4522D Datasheet pdf image
32Kb/3P
NPN TRIPLE DIFFUSION PLANAR TRANSISTOR
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Panasonic Semiconductor
2SC5909 Datasheet pdf image
78Kb/3P
Silicon NPN triple diffusion mesa type
22SC5405 Datasheet pdf image
37Kb/2P
Silicon NPN triple diffusion planar type
2SC3496 Datasheet pdf image
98Kb/4P
Silicon NPN triple diffusion planar type
2SC5884 Datasheet pdf image
75Kb/3P
Silicon NPN triple diffusion mesa type
2SC3870 Datasheet pdf image
59Kb/3P
Silicon NPN triple diffusion planar type
2SC5121 Datasheet pdf image
38Kb/2P
Silicon NPN triple diffusion planar type
2SD1350 Datasheet pdf image
39Kb/2P
Silicon NPN triple diffusion planer type
2SD1742 Datasheet pdf image
49Kb/2P
Silicon NPN triple diffusion planar type
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Asahi Kasei Microsystem...
AK8125AE Datasheet pdf image
363Kb/10P
EMI Countermeasure Spectrum Scan Diffusion IC
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Nell Semiconductor Co.,...
2SC5027 Datasheet pdf image
258Kb/5P
Silicon NPN triple diffusion planar transistor

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O que é DIFFUSION


Nos componentes eletrônicos, a 'difusão' é um dos processos de fabricação de semicondutores, o que significa o processo de injeção de íons ou átomos em materiais semicondutores para formar materiais desejados. A difusão é usada para controlar a distribuição de materiais de doping em dispositivos semicondutores ou para formar regiões semicondutoras com características desejadas.

A difusão consiste nas seguintes etapas:

Purificação: refinando matérias -primas semicondutores e preparando componentes em um estado limpo. Esse processo garante um processo de difusão preciso removendo as impurezas e mantendo o substrato semicondutor limpo.

Mascarar: Durante o processo de difusão, um material de mascaramento é usado para proteger o substrato para definir a região semicondutora desejada. O mascaramento restringe a área para que a difusão ocorra apenas onde desejado.

Difusão: Injete o material desejado no substrato usando equipamento de difusão. Os íons ou átomos penetram na superfície do substrato semicondutores e difundem -se no substrato para controlar a concentração da substância. O tempo e a temperatura de difusão são parâmetros importantes que determinam a taxa de difusão e a concentração de uma substância.

Difusão e purificação reversa: Uma vez concluída a difusão, o material indesejado é removido usando equipamentos de difusão ou difusão reversa. Esta etapa é realizada para purificar o substrato semicondutor.

A difusão é uma das etapas importantes no processo de fabricação de semicondutores e afeta as características elétricas e operação de dispositivos semicondutores. Em particular, a difusão é usada para tarefas importantes, como o controle do nível de doping de dispositivos semicondutores, formação de junções PN e criação de estruturas multicamadas.

*Esta informação é apenas para fins informativos gerais, não seremos responsáveis por qualquer perda ou dano causado pelas informações acima.


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